自我介绍(刚开始口述,面试官打断要求用PPT)
②主问项目(项目半导体工艺相关),结合PPT逐个项目询问
深沟槽刻蚀中遇到什么问题及怎么解决的,沟槽侧壁形貌会出现哪些偏差,刻蚀会调节哪些工艺参数,光刻用的什么光刻胶,光刻机型号及光刻分辨率,掩膜图是你自己画的吗/掩膜图文件格式类型,测量仪器用的哪些,成品应用在什么领域/商用了吗,全部工艺是你一个人做的吗,光刻和刻蚀你更想做哪一个
④笔试题:MOS管工作电路图和特性曲线,在纸上画下来拍照
自我介绍(刚开始口述,面试官打断要求用PPT)
②主问项目(项目半导体工艺相关),结合PPT逐个项目询问
深沟槽刻蚀中遇到什么问题及怎么解决的,沟槽侧壁形貌会出现哪些偏差,刻蚀会调节哪些工艺参数,光刻用的什么光刻胶,光刻机型号及光刻分辨率,掩膜图是你自己画的吗/掩膜图文件格式类型,测量仪器用的哪些,成品应用在什么领域/商用了吗,全部工艺是你一个人做的吗,光刻和刻蚀你更想做哪一个
④笔试题:MOS管工作电路图和特性曲线,在纸上画下来拍照